

Investigations On Magnetron Sputtered Tantalum Oxide Films, Fachbücher von S Uthanna, S. V. Jagadeesh Chandra, G Mohan R...
Das Buch "Investigations On Magnetron Sputtered Tantalum Oxide Films" bietet eine umfassende Analyse der Verwendung von Tanta... Mehr erfahren
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Produktdetails
Das Buch "Investigations On Magnetron Sputtered Tantalum Oxide Films" bietet eine umfassende Analyse der Verwendung von Tantaloxid (Ta2O5) als Dielektrikum in integrierten Schaltungen. Es beleuchtet die hohen dielektrischen Eigenschaften, chemische und thermische Stabilität sowie die Kompatibilität mit mikroelektronischen Prozessen. Die Autoren untersuchen die optimierten Abscheidungsbedingungen für Ta2O5-Filme, die auf Quarz- und p-Typ-Silizium-Substraten mittels reaktiver Magnetronsputtertechnik hergestellt werden. Darüber hinaus wird die Herstellung von Metall-Oxid-Halbleiterbauelementen durch die Ablagerung von Aluminium als oberem Elektrodenmaterial auf Ta2O5 und Silizium behandelt. Die im Buch beschriebenen Methoden zur Herstellung hochwertiger Ta2O5-Schichten sind von Bedeutung für die Entwicklung leistungsfähiger Metall-Oxid-Halbleiterbauelemente für Kondensatoranwendungen.
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Marke:Lap Lambert Academic