ZnO Films Fabricated by AP-MOCVD, Fachbücher von Yen Chin Huang, Wu Yih Uen, Shan Ming Lan

Das Buch "ZnO Films Fabricated by AP-MOCVD" bietet eine umfassende Analyse der Eigenschaften von Zinkoxidfilmen, die durch das Verfahren der atmosphärischen Druck-Molekularstrahldeposition (AP-MOCVD) hergestellt wurden. Zinkoxid (ZnO) ist ein vielversprechendes Material, das sich durch eine hohe optische Transmittanz von über 85 % und eine signifikante elektrische Leitfähigkeit auszeichnet, was es zu einer geeigneten Wahl für transparente Elektroden macht. Im Vergleich zu Indiumzinnoxid (ITO) bietet ZnO den Vorteil einer reichlichen Verfügbarkeit und einer geringeren Umweltbelastung nach der Nutzung. Die Autoren, Yen Chin Huang, Wu Yih Uen und Shan Ming Lan, haben in dieser Arbeit die Charakterisierungen von ungedoptem sowie n- und p-dotiertem ZnO-Halbleitern, die durch AP-MOCVD hergestellt wurden, detailliert untersucht. Diese Forschung ist besonders relevant für Fachleute und Studierende, die sich mit modernen Materialien und deren Anwendungen in der Elektronik und Optoelektronik beschäftigen.