High Dielectric Constant Materials, Fachbücher von David Gilmer, Howard Huff

Das Buch "High Dielectric Constant Materials" bietet eine umfassende Analyse der Herausforderungen und Entwicklungen im Bereich der Hoch-K-Gate-Dielektrika, die für die Zukunft der Halbleitertechnologie von entscheidender Bedeutung sind. Es behandelt sowohl historische als auch aktuelle Ansätze zur Skalierung von Gate-Dielektrika und deren Auswirkungen auf die Technologie. Die Autoren, erfahrene Experten auf ihrem Gebiet, beleuchten die verschiedenen Übergänge von traditionellen Siliziumdioxid-Dielektrika zu modernen Hoch-K-Dielektrika und diskutieren die damit verbundenen Herausforderungen und zukünftigen Entwicklungen. Die Themen umfassen eine eingehende Überprüfung des Moore'schen Gesetzes, die klassischen Regime für SiO2-Gate-Dielektrika sowie die Herausforderungen der Technologie-Generation 45 nm und darüber hinaus. Dieses Fachbuch ist eine wertvolle Ressource für Fachleute und Studierende, die sich mit den Grundlagen und den neuesten Trends in der Halbleitertechnologie auseinandersetzen möchten.