Phase-Shift Mask, Fachbücher von Lambert M. Surhone, Miriam T. Timpledon, Susan F. Marseken
Das Buch "Phase-Shift Mask" von Betascript Publishing bietet eine umfassende Einführung in die Technologie der Phasenverschie... Mehr erfahren
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Produktdetails
Das Buch "Phase-Shift Mask" von Betascript Publishing bietet eine umfassende Einführung in die Technologie der Phasenverschiebungsmaske, die in der Photolithographie verwendet wird. Es erklärt, wie diese speziellen Fotomasken durch die Nutzung von Interferenzen, die aus Phasendifferenzen resultieren, die Bildauflösung verbessern können. Das Werk behandelt sowohl die alternierenden als auch die abgeschwächten Phasenverschiebungsmasken und erläutert deren Funktionsweise im Vergleich zu herkömmlichen Fotomasken. Die Autoren, Lambert M. Surhone, Miriam T. Timpledon und Susan F. Marseken, haben eine Sammlung von Artikeln zusammengestellt, die auf frei zugänglichen Quellen basieren und somit eine fundierte Grundlage für das Verständnis dieser Technologie bieten. Das Buch richtet sich an Fachleute und Studierende im Bereich Technik und IT, die sich mit den neuesten Entwicklungen in der Halbleiterfertigung auseinandersetzen möchten.
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Marke:Betascript Publishing